9 月 24 日消息，韩媒 etnews 当地时间今日报道称，SK 海力士计划在未来两年内新购置约 20 台 ASML 的 EUV 光刻系统。考虑到 SK 海力士目前持有约 20 台用于研发和生产的 EUV 机台，这意味着这家存储巨头对此类设备的保有规模将在两年内翻倍。
在 SK 海力士的两大业务领域中，内存端的 EUV 光刻工艺早已随着 2021 年的 1a nm DRAM 实现商业化，EUV 的应用规模也在随着内存世代演进稳步提升。
而由于 AI 发展对企业级高性能存储尤其是 HBM 需求的提升，SK 海力士需要更多的 EUV 设备来扩大先进 DRAM 内存的生产规模。
除目前主要应用的 Low-NA EUV 光刻机，SK 海力士本月早些时候还在存储器业界引进了首台量产型 High-NA EUV 光刻机，即 ASML 的 TWINSCAN EXE:5200B，部署在韩国利川 M16 生产基地中。
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