11月3日消息，EUV工艺是5nm节点之后无法绕过的先进工艺，EUV光刻机只有荷兰ASML能产，但日本在EUV光刻胶领域很有优势，针对2nm及以下节点，日本三大化工巨头都在积极扩产。
日本半导体材料厂东京应化工业（Tokyo Ohka Kogyo）日前宣布，将在韩国平泽投资200亿日元，约合1.3亿美元建设光刻胶工厂，预计2030年正式投产。
平泽是三星、SK海力士等韩国半导体公司的重要生产基地，该工厂投产后应化工业在韩国的产能将翻三四倍，更好地满足客户需求。
此外，应化工业还会在韩国再投资120亿日元建设高纯度化学厂，同样会应用先进半导体工艺，此举被外界视为日本厂商积极扩产，提前部署2nm及更先进工艺的需求。
同样是EUV光刻胶巨头的JSR公司也会在韩国投资建设MOR型光刻胶工厂，而且明年底就会量产。
另一家百年老店Adeka阿德卡也将在日本投资扩产，花费32亿日元在日本建设MOR型光刻胶工厂，预计2028年4月份量产。
MOR型光刻胶以金属氧化物为基础，主要是为EUV光刻工艺而研发的，国内也在积极建设MOR光刻胶研发及生产线。
不过在半导体材料，尤其是光刻胶方面，日本公司长期占据世界91%以上的份额，虽然本土暂时没有2nm工艺芯片厂，但他们积极布局海外，对2nm及以下的先进工艺一样志在必得。
本站内容除特别声明的原创文章之外，转载内容只为传递更多信息，并不代表本网站赞同其观点。转载的所有的文章、图片、音/视频文件等资料的版权归版权所有权人所有。本站采用的非本站原创文章及图片等内容无法一一联系确认版权者。如涉及作品内容、版权和其它问题，请及时通过电子邮件或电话通知我们，以便迅速采取适当措施，避免给双方造成不必要的经济损失。联系电话：010-82306118；邮箱：aet@51qz.net。